近紅外光譜儀包括一個(gè)光學(xué)平臺，可大大減少雜散光并提高機(jī)械和溫度穩(wěn)定性。這個(gè)新的光學(xué)平臺具有雙內(nèi)置模式消除器和多級復(fù)合拋物面反射鏡，因此雜散光減少至0.04％，是標(biāo)準(zhǔn)光譜儀的2.5倍。除了改善雜散光之外，這種新的光學(xué)平臺還將其機(jī)械強(qiáng)度提高了10倍以上，從而使其對機(jī)械變形和溫度變化的敏感性降低。

　　盡管近紅外光譜儀具有很高的精度，但是由于許多因素的影響，仍然存在一定的誤差，那么如何才能巧妙地避免本儀器的誤差呢？

　　1、系統(tǒng)誤差的來源

　　（1）當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品和樣品的含量和化學(xué)組成不*相同時(shí)，可能會(huì)導(dǎo)致矩陣線和分析線的強(qiáng)度發(fā)生變化，從而引入錯(cuò)誤。

　?。?）當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品的物理性質(zhì)和樣品的物理性質(zhì)不*相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線將不同，這將導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。

　　（3）當(dāng)處于澆鑄狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)與處于退火，淬火，回火，熱軋和鍛造狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)不同時(shí)，測得的數(shù)據(jù)將有所不同。

　?。?）未知元素光譜的重疊干擾。例如，在熔煉過程中添加脫氧劑和脫硫劑時(shí)，未知的合金元素會(huì)混入系統(tǒng)中，從而導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。

　　（5）為了消除系統(tǒng)誤差，有必要嚴(yán)格遵守標(biāo)準(zhǔn)樣品制備的要求。為了檢查系統(tǒng)錯(cuò)誤，有必要使用化學(xué)分析方法來分析多次校對的結(jié)果。

　　2、偶然誤差的來源

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。由于光電光譜分析消耗的樣品很少，因此樣品中元素分布的不均勻性和組織結(jié)構(gòu)的不均勻性會(huì)導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同，并偶爾出現(xiàn)誤差。

　　（1）在熔煉過程中引入夾雜物，導(dǎo)致偏析導(dǎo)致樣品中元素分布不均。

　?。?）樣品的缺陷，氣孔，裂縫，水泡等。

　　（3）諸如交叉研磨模式，樣品研磨的過熱，樣品研磨表面的時(shí)間過長以及指紋等因素。

　?。?）為了減少意外誤差，必須仔細(xì)取樣以消除樣品的不均勻性和樣品的鑄件缺陷。也可以重復(fù)分析幾次以減少分析誤差。

　　希望上述內(nèi)容能夠幫助大家更好的了解本儀器。